Li<sup>+sup>共掺杂GdTaO<sub>4sub>：Eu<sup>3+sup>发光增强效应的研究

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• 出版年：2010
• 作者：傅尚怡；顾牡；刘小林；倪晨；刘波；黄世明
• 单位1：同济大学波耳固体物理研究所，上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室
• 出生年：1983
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：GdTaO<sub>4sub>：；Eu<sup>3+sup>；Li<sup>+sup>共掺杂；Judd-Ofelt理论；助熔剂效应
• 起始页：2317
• 总页数：4
• 经费资助：国家自然科学基金项目（50672068，10875085）资助
• 刊名：光谱学与光谱分析
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1981
• 主管单位：中国科学技术学会
• 主办单位：中国光学学会
• 主编：黄本立
• 地址：北京市海淀区魏公村学院南路76号钢铁研究总院
• 邮编：100081
• 电子信箱：chngpxygpfx@vip.sina.com
• 网址：http://www.gpxygpfx.com
• 卷：30
• 期：9
• 期刊索取号：P342.06 220
• 数据库收录：物理类、化学类核心期刊
• 核心期刊：物理类、化学类核心期刊

摘要

测量了不同浓度Li<sup>+sup>共掺杂下GdTaO<sub>4sub>：Eu<sup>3+sup>荧光粉材料的X射线衍射谱（XRD）、发射光谱以及红外透射谱，并应用Judd-Ofelt理论，由发射光谱得到Eu3+的光谱跃迁强度参数Ω<sub>2sub>。发现Li<sup>+sup>共掺杂有助于提高GdTaO<sub>4sub>：Eu<sup>3+sup>的发光强度，当x=0.06和0.10时，612nm处的发光强度分别被提升了1.7倍和1.5倍。发光增加的原因是因为Li<sup>+sup>的助熔剂效应有效提高了GdTaO<sub>4sub>材料的结晶性能，并抑制了Gd<sub>2sub>O<sub>3sub>和Ta<sub>2sub>O<sub>5sub>杂相的产生，而非所推测的掺Li<sup>+sup>引起了配位场对称性降低，从而导致宇称禁戒的放宽。此时Gd<sub>0.92sub>-<sub>xsub>Li<sub>xsub>TaO<sub>4sub>：Eu<sup>3+sup><sub>0.08sub>材料不仅结晶性能较好，而且Gd<sub>2sub>O<sub>3sub>和Ta<sub>2sub>O<sub>5sub>杂相也相对较少，故而发光增强最为明显。