纳米片状金刚石膜的制备和生长过程

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• 作者：姚宁崔娜娜鲁占灵苏博葛亚爽安子凤张兵临
• 会议时间：2011-11-01
• 关键词：纳米金刚石膜 ; 单晶硅 ; 化学气相沉积系统 ; 生长机理
• 作者单位：姚宁(中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥 230031 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052)崔娜娜,苏博,葛亚爽,安子凤,张兵临(郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052)鲁占灵(郑州大学材料科学与工程学院,郑州 450052)
• 母体文献：2011中国(郑州)国际磨料磨具磨削技术发展论坛暨超硬材料论坛论文集
• 会议名称：2011中国(郑州)国际磨料磨具磨削技术发展论坛暨超硬材料论坛
• 会议地点：郑州
• 主办单位：中国机床工具工业协会
• 语种：chi

摘要

本文用微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD)在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为CH4:H2=30:30sccm,微波功率为1800 w,反应气压为10kPa。利用扫描电镜(SEM)和Raman光谱分析薄膜的形貌和碳结构。结果表明纳米金刚石薄膜呈现片状的组织特征,其生长过程为:生长初期在单晶硅衬底上形成由纳米碳颗粒组成的球状碳团簇;随着时间的增加,碳团簇逐渐增大,纳米碳颗粒定向排列或自组装,最终形成片状纳米金刚石膜。