SU-8胶微结构的尺寸公差研究

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• 作者：秦江杜立群刘冲朱神渺
• 会议时间：2006-09-21
• 关键词：SU-8胶 ; 菲涅耳衍射 ; 尺寸公差 ; 紫外光刻
• 作者单位：秦江,杜立群,刘冲(大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连,116023;大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,大连,116023)朱神渺(大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,大连,116023)
• 母体文献：传感技术学报
• 会议名称：第八届中国微米/纳米技术学术年会
• 会议地点：南京
• 主办单位：中国微米/纳米技术学会
• 语种：chi

摘要

本文对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟.以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验中掩模的特征宽度分别取50 μm、100μm、200μm和400 μm,SU-8胶表面的曝光剂量分别取400mJ/cm2和800mJ/cm2,测量了SU-8胶微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,数值模拟结果与实验结果基本吻合.可以用本文的模型来预测SU-8微结构的尺寸及其公差.