Modeling of thermal oxidation of silicon
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- 作者：Satish K. Singh ; John R. Schlup ; L. T. Fan ; and Biswajit Sur
- 刊名：Industrial & Engineering Chemistry Research
- 出版年：1988
- 出版时间：September 1988
- 年：1988
- 卷：27
- 期：9
- 页码：1707 - 1714
- 全文大小：903K
- 年卷期：v.27,no.9(September 1988)
- ISSN：1520-5045
文摘
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