DMH无氰镀银工艺改进及镀层性能表征
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  • 作者:安茂忠吴青龙卢俊峰
  • 会议时间:2007-11-01
  • 关键词:无氰电镀银 ; 电沉积 ; 镀层 ; 晶体结构
  • 作者单位:哈尔滨工业大学应用化学系,哈尔滨 150001
  • 母体文献:2007(第13届)全国电子电镀学术年会暨绿色电子制造技术论坛论文集
  • 会议名称:2007(第13届)全国电子电镀学术年会暨绿色电子制造技术论坛
  • 会议地点:杭州
  • 主办单位:中国电子学会
  • 语种:chi
摘要
在原有DMH(5,5-二甲基乙内酰脲)无氰电镀银工艺的基础上,通过正交实验进一步优化了镀液组成及工艺条件,并对电沉积过程、优化前后所得镀层的表面形貌、晶体结构等进行了测试。结果表明,DMH体系中银的电沉积过程受扩散控制,电结晶过程遵循三维成核规律。改进后的DMH无氰电镀银镀液所得镀层的晶粒较原工艺更为圆滑、分布更为均匀、结晶更为细致,结晶晶面择优取向更为明显。