作者：沈珊瑚

关键词：光学邻近校正 ; 光刻建模 ; 版图轮廓 ; 逆向掩模综合 ; 可制造性设计 ; 贝塞尔函数 ; 遗传算法 ; Autonomous ; OPC

论文级别：博士

学位年度：2009

作者：冯春阳

关键词：可制造性设计 ; 工艺偏差 ; 化学机械抛光工艺 ; 工艺建模与仿真 ; 粗糙表面 ; 哑元金属填充 ; 覆盖线性规划 ; 近似算法

论文级别：博士

学位年度：2010

作者：姜晓鸿

关键词：局部缺陷 ; IC关键面积 ; 功能成品率 ; 可靠性 ; 电迁徙

论文级别：博士

学位年度：1998

作者：杨祎巍

关键词：分辨率增强技术 ; 光学邻近校正 ; 反向光刻技术 ; 并行计算 ; 可制造性模型 ; 可制造性验证

论文级别：博士

学位年度：2010

作者：朱恒亮

关键词：工艺参数偏差 ; 几何参数偏差驱动电容提取 ; 随机正交多项式 ; 广义随机正交多项式 ; 随机配置方法 ; 广义随机配置方法 ; 稀疏网格

论文级别：博士

学位年度：2009

作者：朱椒娇

关键词：成品率预测 ; 随机缺陷成品率 ; 关键面积 ; 缺陷模型 ; 可制造性设计 ; 成品率驱动设计 ; Voronoi图 ; 多边形算子方法

论文级别：博士

学位年度：2013

作者：林斌

关键词：分辨率增强技术 ; 光学邻近校正 ; 可制造性设计 ; 缺陷检查 ; 热点管理

论文级别：博士

学位年度：2013

作者：赵宇航

关键词：可制造性设计(DFM) ; 双重曝光 ; 光学临近效应(OPC) ; 化学机械抛光(CMP) ; 铜互连

论文级别：博士

学位年度：2009

作者：陈晔

关键词：光学邻近修正 ; 光刻仿真 ; 光刻友好的版图设计 ; 可制造性设计 ; 亚波长光刻

论文级别：博士

学位年度：2008

作者：马佩军

关键词：集成电路 ; 功能成品率 ; 仿真 ; 关键面积 ; 优化设计

论文级别：博士

学位年度：2000