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Elsevier电子期刊(933)

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1.TiN deposition and morphology control by scalable plasma-assisted surface treatments

作者：Oleg Baranov^a ; ^{olbaranov@yahoo.com} ; Jinghua Fang^b ; Kostya (Ken) Ostrikov^c ; ^d ; Uro&scaron ; Cvelbar^e

关键词：Thin films ; Physical vapour deposition (PVD) ; Sputtering ; Arc discharges

刊名：Materials Chemistry and Physics

出版年：2017

2.Growth and characterization of β-Ga₂O₃ crystals

作者：V.I. Nikolaev^a ; ^b ; ^c ; V. Maslov^c ; S.I. Stepanov^b ; ^d ; ^{s.i.stepanov@googlemail.com} ; A.I. Pechnikov^a ; ^b ; V. Krymov^b ; ^c ; I.P. Nikitina^c ; L.I. Guzilova^b ; ^c ; V.E. Bougrov^b ; A.E. Romanov^b ; ^c

关键词：A2. Growth from vapour ; A3. Physical vapour deposition processes ; B1. Gallium compounds ; B1. Oxides ; B2. Semiconducting gallium compounds ; B2. Wide bandgap semiconductors

刊名：Journal of Crystal Growth

出版年：2017

3.Morphological evolution of nanocrystalline metal phthalocyanines and their applications in field-effect transistors

作者：Yao Chen ; Yin Xiao ; ^{xiaoyin@tju.edu.cn} ; Zijie Su ; Xiaona Shao ; Shirong Wang ; Xianggao Li

关键词：CoPc ; F16CoPc ; Physical vapour deposition ; Crystal growth ; Nanostructure ; OFET

刊名：Materials Letters

出版年：2017

4.Influence of diffusion on the coating adhesion of zinc-magnesium thin films onto steel

作者：E. Zoestbergen ; ^{edzo.zoestbergen@tatasteel.com} ; J van de Langkruis ^{jorgen.van-de-langkruis@tatasteel.com} ; T.F.J. Maalman ^{theo.maalman@tatasteel.com} ; E. Batyrev ^{erdni.batyrev@tatasteel.com}

关键词：Physical vapour deposition (PVD) ; Coating delamination ; Diffusion ; Zinc-magnesium

刊名：Surface and Coatings Technology

出版年：2017

5.Metal Release of Multilayer Coatings by Physical Vapour Deposition (PVD)

作者：Mohd. Zakuan Bin Abdullah^a ; ^{zakuan@sirim.my" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author} ; Mohamad Azmirrudin Ahmad^a ; Ahmad Nizam Abdullah^a ; Mohamad Hazri Othman^a ; Patthi Hussain^b ; Azman Zainuddin^b

关键词：Multilayer coating ; Physical Vapour Deposition (PVD) ; Metal Release

刊名：Procedia Engineering

出版年：2016

6.Facile growth of large-area and high-quality few-layer ReS₂ by physical vapour deposition

作者：Fei Qi ; Yuanfu Chen ; ^{yfchen@uestc.edu.cn" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author} ; Binjie Zheng ; Jinhao Zhou ; Xinqiang Wang ; Pingjian Li ; Wanli Zhang

关键词：Rhenium disulfide ; Physical vapour deposition ; Semiconductors ; Few-layer ReS2

刊名：Materials Letters

出版年：2016

7.Time evolution of the growth of single graphene crystals and high resolution isotope labeling

作者：Eric Whiteway^a ; ^{whiteway@physics.mcgill.ca" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author} ; Wayne Yang^a ; ^b ; Victor Yu^a ; Michael Hilke^a

刊名：Carbon

出版年：2017

8.Inductively-coupled plasma-enhanced chemical vapour deposition of hydrogenated amorphous silicon carbide thin films for MEMS

作者：Tobias Frischmuth^a ; ^{tobias.frischmuth@tuwien.ac.at" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author}Author Vitae ; Michael Schneider^aAuthor Vitae ; Daniel Maurer^bAuthor Vitae ; Thomas Grille^bAuthor Vitae ; Ulrich Schmid^aAuthor Vitae

关键词：α ; molecular polarizability ; δSiC ; absorption coefficient area of SiC bonds ; E ; Young&rsquo ; s modulus ; γ(ω) ; absorption coefficient ; Γ ; nanoindentation hardness ; Mm ; molar mass ; n ; refractive index ; ξ ; deposition rate ; pb ; chamber back pressure ; PICP ; inductively-coupled plasma power ; rCH4 ; reactive gasflow ratio (Methane versus sum of Methane and Silane) ; ρ ; mass density ; Ts ; substrate temperature

刊名：Sensors and Actuators A: Physical

出版年：2016

9.High resolution determination of local residual stress gradients in single- and multilayer thin film systems

作者：R. Treml^a ; D. Kozic^b ; J. Zechner^c ; X. Maeder^c ; B. Sartory^b ; H.-P. Gä ; nser^b ; R. Schö ; ngrundner^b ; J. Michler^c ; R. Brunner^b ; D. Kiener^a ; ^{daniel.kiener@unileoben.ac.at" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author}

关键词：Residual stress ; Ion beam layer removal (ILR) ; Multilayer thin films ; Physical vapour deposition (PVD) ; X-ray diffraction

刊名：Acta Materialia

出版年：2016

10.High-efficiency Machining of Materials Used in Heavy Power Engineering

作者：Alexey Vereschaka^a ; ^{ecotech@rambler.ru" class="auth_mail" title="E-mail the corresponding author} ; Anatoly Vereschaka^a ; Dmitry Klauch^b ; Dmitry Lytkin^b ; Andre Batako^c

关键词：carbide ; cutting tool ; PVD-coating ; physical vapour deposition (pvd) ; hard machining

刊名：Procedia CIRP

出版年：2016

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